西瓜栽培技术的两项改革

时间:2024-03-12 编辑:Aaron
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我们经多年试验总结,对过去西瓜栽培上两项技术进行改革,在不多花1分钱的前提下,可增产30%~40%,甚至有的增产50%以上。一、改短缩节留分蔓为伸长节留分蔓西瓜苗出土后,子叶以上有6个短缩节,每个短缩节都有很强的分蔓能力。很多西瓜专著主张在短缩节留分蔓;也有很多制种单位在品种介绍上说在基部留分蔓;广大瓜农在生产中也是在短缩节留分蔓。西瓜生产中多为三蔓正枝,即一主两副。在实践中发现,除主蔓外,在短缩节留2个分蔓,这样的三蔓正枝往往出现主次不分,有时分蔓生长旺盛,超过主蔓,造成有时在主蔓上座瓜,有时在副蔓上座瓜。雌花开放时,相对较弱,表现幼瓜小且圆,瓜蒂细且短,花冠小且弱,不会长成大瓜。基于这样的发现,我们主张改短缩节留分蔓为伸长节留分蔓。即去掉一切短缩节分蔓,使主蔓伸长,再在主蔓上留2个分蔓。部位为主蔓伸长33cm左右,选对称2个节位,留2个分蔓。这样的三蔓正枝才主次分明。主蔓生长粗壮有力,将来在主蔓上留瓜。雌花开放时,幼瓜大且长型,瓜蒂长且粗,花冠大且蕊壮,将来才能长成大瓜。从主蔓上留的2副蔓,不座瓜,主要进行光合作用,制造营养,供应主蔓长大瓜。二、改单沟施肥为双沟施肥西瓜生产中,一般施肥量都很多,除土杂肥外,还有饼肥、化肥等。很多瓜农开一条深宽各20~30cm的沟,把所有的肥料都集中施入沟内,然后起垄,瓜种在垄上。有人认为,这样集中施肥瓜长的好,实则不然。瓜种在肥沟上,由于肥多而集中,瓜苗容易过旺徒长。有时还有烧苗现象,甚至死苗和不出苗。座瓜时,西瓜的很多根系已经伸出肥的范围,致使养分不足而长不成大瓜。为此,我们提出改单沟施肥为双沟施肥。相距20~30cm,开两条深宽各20~30cm的沟,肥分两沟施入。起垄后,瓜种在两肥沟之间。一般土壤的瓜苗不会弱,根系很快就能吸收肥料,又不易过旺徒长,更不易烧苗。座瓜时,大部分根系仍在两肥沟范围内,因此瓜长的大。
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